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High Purity Custom Size Polished Fused Silica Quartz Plate for UV Instrument
使用温度1100℃、融点1732℃の高純度99.99% SiO₂ 石英プレート。カスタムサイズ、パンチング、カッティング、無料サンプルも利用可能です。信頼性の高い耐久性を備え、UV機器や半導体用途に最適です。
High Quality Optical Fused Silica Punching Quartz Glass Plate for Laboratory Optical Equipment
融点1732℃、使用温度1100℃の高純度99.99%溶融シリカ石英プレート。半導体・光学機器に最適です。カスタムパンチング、カッティング、無料サンプルが特徴です。耐久性があり、効率的で、正確な仕様に合わせて調整されています。
99.99% 高純度カスタムサイズ石英ガラス管 半導体炉用石英管
高純度99.99%の半導体炉用溶融石英ガラス管です。融点 1750 ～ 1850℃、モース硬度 6.5、優れた熱安定性が特徴です。 CE、RoHS、SGS 認証を取得したカスタム サイズも利用可能です。優れた耐酸性と高い透過率により、要求の厳しい産業用途において信頼性の高い性能が保証されます。
OEM/ODMカスタム高純度99.99%石英ガラス管実験炉メーカー用
炉、半導体装置、実験用反応器用にカスタマイズされた耐高温性 99.99% SiO₂ 石英ガラス管。 1100℃の使用温度、耐食性、カスタム加工が特徴です。 ISO9001、CE、RoHS認証を取得しており、無料サンプルも入手可能です。
精密に描かれた溶融したシリカ毛細管 高純度 カスタムID ODクォーツ毛細管
動作温度 1100℃、カスタム ID/OD の高純度 99.99% 溶融シリカキャピラリー。半導体や実験器具に最適です。 B2B 輸出用の無料サンプルと精密な切断/穴あけをサポートします。
高温耐性 カスタム透明 JGS2 クォーツ毛細管
融点 1732℃、動作温度 1100℃の高純度 99.99% SiO₂ 石英キャピラリー。カスタムパンチング/カッティング、無料サンプル、クリアな透明性が特徴です。半導体および実験室の反応器に最適です。
半導体産業に理想的な高純度・高熱安定性石英ガラス管
融点1732℃、使用温度1100℃の高純度99.99% SiO₂石英ガラス管。半導体、炉、実験用反応器の用途に最適です。 B2B バイヤー向けにカスタムのパンチング/カッティング、無料サンプル、低 MOQ を提供します。
JGS2 高温炉ビューポート用溶融石英石英プレート
JGS2 溶融シリカ プレートは、99.99% 以上の SiO2 純度、1200°C の動作温度、および炉のビューポート用の高い透過率を提供します。カスタム サイズ、研磨仕上げ、認証により、産業用 B2B アプリケーションの耐久性と効率性が保証されます。
