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SIO2精密ガラスのHemagglutinationの版の水晶96よく
製品の説明: Microplates、別名マイクロ プレートは、ELISAからのPCRにいろいろな試金で使用される長方形のmulti-wellの版である。業界標準、96-well版はすべての共通の器械のために設計され、サンプル コレクション、混合の準備、組合わせ化学、高い効率のスクリーニング、核酸の浄化、細菌文化成長および版の写しのような適用に使用することができる。版の列は数および手紙と普通分類される;右上隅のノッチは正しい版のオリエンテーションを定める。版はポリプロピレンまたはポリスチレンの、生殖不能またはnonsterileフォーマットで利用できる;円形か平底の井戸およびいろいろな容積。版...
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高純度溶融シリカクォーツボート 高温耐性クォーツボート
オーダーメイド シリコン・ウェーファー 清掃ラック 石英溝 ボート 高温耐性 シェンファン・クォーツ・プレートの特徴 資産 仕様 ブランド シェンファン・クォーツ SiO2 99.99% 密度 2.2 (g/cm3) 硬さ度 (モハスケール) 6.6 溶融点 1732°C 作業温度 1100°C 焼却点 1180°C 柔らかい点 1630°C 製品仕様 パラメータ 詳細 色 はっきりした 形状 円形 スタンダード JGS1,JGS2,JGS3 材料 99.99% SiO2 直径 1~800mm 厚さ 0.2-100mm 適用する オプティッククォーツ窓 密度 6.6 光の伝達力 >92% 硬さ ...
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高精度の水晶ガラス プロダクト高温抵抗の精密ガラス機械化の石英ガラスのボート
高精度の水晶ガラス プロダクト、高温抵抗の石英ガラスのボート 製品の説明: 水晶ガラス ディスクは非常によい基材である特別な産業技術ガラスの石英ガラスから成っている。 水晶ガラスに優秀で物理的な、化学特性がある:高い純度、強い伝達、厳密なサイズ制御、低いオハイオ州の内容等。深い処理は顧客の条件に従って、打つ、端正な切断火の光沢のような製粉する行われ、終わり、等磨かれた密封曲がる。 製品範囲: 1.Quartz管:外の直径Φ2-450mmの厚さ0.5-20mm 2.Quartz棒（1.5-80mm） 3.Quartz版（さまざまな形 指定は、の透明物、訓練ごしごし洗う） 4.Quartz器械（フ...
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半導体用途向けのカスタマイズされたサイズの純度 99.99% の高温耐性石英プレート
注文のシリコン ウェーハのクリーニング ラックの石英の溝のボートの高温抵抗力がある Shengfan クォーツプレートの特徴 財産 仕様 ブランド シェンファンクォーツ SiO₂ 99.99% 密度 2.2 (g/cm3) 硬度（モース硬度） 6.6 融点 1732℃ 使用温度 1100℃ アニーリングポイント 1180℃ 軟化点 1630℃ 製品仕様 パラメータ 詳細 色 クリア 形 円形 標準 JGS1、JGS2、JGS3 材料 99.99% SiO₂ 直径 1-800mm 厚さ 0.2～100mm 応用 光学石英窓 密度 6.6 光透過率 >92% 硬度 モース硬度 6.5 抵抗値 通常...
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高温耐性クォーツレーザードリリングシート
SiO₂含有量99.99%、融点1732℃、使用温度1100℃の高温耐性石英レーザー穴あけシート。カスタム石英プレートは、半導体用途向けの打ち抜きや切断などのさまざまな加工サービスでご利用いただけます。
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耐熱耐腐食耐性 99.99% SiO2 含有度 クォーツガラスプレート
SiO₂ 含有率 99.99% の耐熱性溶融シリカウィンドウ、動作温度は 1100℃ までです。カスタム石英ガラスプレートはさまざまなコーナータイプと仕様でご利用いただけます。半導体および産業用アプリケーションの無料サンプルとカスタム製造をサポートします。
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半導体用途向けのカスタマイズされたサイズの純度 99.99% の高温耐性石英プレート
半導体用途向けにカスタマイズされた純度 99.99% の高温石英プレート。 1150℃の動作温度、優れた耐酸性（セラミックの30倍）、サイズ/形状の完全なカスタマイズが特徴です。曲げ、溶接、研磨などの加工サービスを行っております。
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高温耐性 半導体および光学アプリケーションのための高酸耐性のあるカスタマイズされたサイズ クリアクォーツプレート
微細な形状を持つ石英プレートの精密ガラス加工。高純度 SIO2 >99.99%、1150℃の使用温度に耐え、モールス硬度 6.5、優れた耐酸性を備えています。曲げ、溶接、打ち抜き、研磨サービスを備えたカスタムサイズ。半導体および光学用途に最適です。
