| キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 使用温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 使用温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| タイプ | 透明なクォーツ管 |
|---|---|
| アプリケーション | 光学半導体 |
| 厚さ | 1~100mm |
| 形状 | スクエア |
| 処理サービス | パンチ 切る |
| タイプ | クリアクォーツチューブ |
|---|---|
| アプリケーション | 半導体、光学 |
| 厚さ | 1-100mm |
| 形 | ラウンド |
| 処理サービス | パンチング、切断 |
| 名前 | クォーツガラスボート |
|---|---|
| アプリケーション | 源、半導体 |
| 材料 | SIO2> 99.99％ |
| 特徴 | よい電気絶縁材 |
| 光透過率 | > 92％ |
| キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| キーワード | サイエンス ラボのガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス ラボのカスタマイズされた石英機器 |
| 材料 | 溶融シリコン |
| 作業温度 | 1100℃ |
| 酸耐性 | セラミックスの30倍 |
| キーワード | サイエンス ラボのガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス ラボのカスタマイズされた石英機器 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸耐性 | セラミックスの30倍 |
| キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 作業温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 作業温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
