| タイプ | クリアクォーツプレート |
|---|---|
| 応用 | 半導体、光学 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形 | 四角 |
| 処理サービス | パンチング、切断 |
| タイプ | クリアクォーツプレート |
|---|---|
| 応用 | 半導体、光学 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形 | 四角 |
| 処理サービス | パンチング、切断 |
| タイプ | クリアクォーツプレート |
|---|---|
| アプリケーション | 半導体、光学 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形 | 四角 |
| 加工サービス | パンチング、切断 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
|---|---|
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 製品名 | 精密ガラスの機械化 |
|---|---|
| 材料 | SiO2 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 表面質 | 20/40か40/60 |
| 製品名 | 水晶ガラス棒 |
|---|---|
| 材料 | SIO2>99.99% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 軽いtransimittance | 92％ |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 精密ガラスの機械化 |
|---|---|
| 材料 | SiO2 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1200℃ |
| 表面質 | 20/40か40/60 |
| 製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 精密ガラスの機械化 |
|---|---|
| 材料 | SIO2 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 表面質 | 20/40か40/60 |
| 製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
