| 材料 | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| 軽い伝送 | >92% |
| 働くTemparature | 1100℃ |
| 硬度 | Mose 6.5 |
| タイプ | クォーツ・ウェーファー・キャリア |
|---|---|
| 適用する | 光学半導体 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形状 | スクエア |
| 処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
| タイプ | 透明なクォーツ管 |
|---|---|
| 適用する | 光学半導体 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形状 | 半円形 |
| 処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
| タイプ | 透明なクォーツプレート |
|---|---|
| 適用する | 光学半導体 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形状 | スクエア |
| 処理サービス | 、溶接し曲がること、磨く切断打つ |
| 材料 | 99.99% |
|---|---|
| 軽い伝送 | 92% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 働くTemparature | 1100℃ |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 材料 | 99.99% |
|---|---|
| 軽い伝送 | 92% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 働くTemparature | 1100℃ |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 素材 | 溶かされたケイ素 |
|---|---|
| 動作温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
| 製品名 | 水晶ガラス板 |
|---|---|
| 材料 | SIO2>99.999% |
| 密度 | 2.2 （g/cm3） |
| 軽い伝送 | >92% |
| 硬度 | モールス6.5 |
| タイプ | 透明なクォーツプレート |
|---|---|
| 適用する | 光学半導体 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形状 | スクエア |
| 処理サービス | パンチ 切る |
