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半導体用高純度石英板 カスタマイズ研磨レーザー穴あけ石英ガラスシート
半導体用途向けに、SiO₂ 純度 99.99% の石英ガラスシートをカスタマイズした研磨レーザー穴あけ加工。高温耐性 (使用温度 1100℃)、密度 2.2g/cm3 が特徴で、無料サンプルが入手可能でカスタム切断/穴あけをサポートしています。
耐熱1200℃石英ガラスプレート、光透過率92%以上、SiO2純度99.99%（太陽炉用）
使用温度 1150℃、光透過率 >92%、SiO2 純度 99.99% の耐熱性石英ガラス プレート。 JGS1/JGS2/JGS3規格で板厚0.5～100mmを取り揃えております。太陽炉、実験室、産業用途向けのカスタム製造オプション。
カスタム高純度99.99% SiO2石英ガラスプレート、UV高透過率>92%、高温耐性1150℃、光学窓用
SiO2 純度 99.99%、光透過率 >92%、動作温度 1150℃ のカスタム石英ガラス シート。厚さは 0.5 ～ 100 mm で、光学用途向けに切断、曲げ、溶接などの完全なカスタマイズが可能です。
化学反応器 高品質のクォーツチューブ反応器
Chemical Reactor High Quality Quartz Tube Reactor Professional Quartz Glass Reactor Manufacturer We are a manufacturer of UV Quartz Photocatalytic Reactor Glass Reactor Lab UV Quartz Photocatalytic Reactor Glass Reactor Lab Capacity design: Accept customized according to your drawing and capacity. ...
高純度99.99% カスタム径1-1000mm 耐熱切断石英ガラス管
カスタム直径 1 ～ 1000 mm の高純度 99.99% 石英ガラス管。融点1732℃、使用温度1100℃、切断サービスが特徴です。半導体、高温炉、実験室での用途に最適です。無料サンプルをご利用いただけます。
高純度溶融シリカクォーツガラスチューブ 高温耐性 1100°C オーダーメイドサイズ 1mm-1000mm 研究室用
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
加熱炉設備用カスタム大口径高純度99.99%石英ガラス管
加熱炉装置用のSiO₂純度99.99%のカスタム大口径石英ガラス管。 1100℃の動作温度、1732℃の融点、耐食性、最大外径10000mmのカスタムサイズが特徴です。半導体および高温炉用途向けの無料サンプルをご用意しています。
高透明の磨き 化学実験用の溶融シリカクォーツガラスボトル
化学実験室実験用の高透明研磨溶融石英石英ガラスボトル。 SiO₂ 含有量 99.99%、融点 1732℃、使用温度 1100℃、硬度 6.6 が特徴です。実験室研究、半導体プロセス、大学教育用途に最適です。
