| キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 作業温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 製品名 | 水晶ガラス棒 |
|---|---|
| 材料 | SIO2>99.99% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 軽いTransimittance | 92% |
| 硬さ | モールス6.5 |
| キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 作業温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| Name | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 作業温度 | 1100°C |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 製品名 | 円形の水晶ガラス |
|---|---|
| 材料 | SIO2>99.99% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働くTemparature | 1150℃ |
| 製品名 | 水晶ガラス板 |
|---|---|
| 材料 | 99.99% |
| 軽い伝送 | 92% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 働くTemparature | 1100℃ |
| タイプ | 明確な水晶版 |
|---|---|
| 応用 | 光学半導体 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形 | 正方形 |
| サービスの処理 | の磨く切断打つこと |
| タイプ | 明確な水晶版 |
|---|---|
| 適用 | 光学紫外線 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形 | 正方形 |
| サービスの処理 | の切断打つ溶接曲がること |
| キーワード | サイエンス ラボのガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス ラボのカスタマイズされた石英機器 |
| 材料 | 溶融シリコン |
| 作業温度 | 1100℃ |
| 酸耐性 | セラミックスの30倍 |
| 製品名 | 水晶ガラス板 |
|---|---|
| 材料 | Sio2>99.99% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 軽いTransimittance | 92% |
| 硬さ | モールス6.5 |
