Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
製品名 | 水晶ガラス板 |
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材料 | SIO2 |
硬度 | モールス6.5 |
働く温度 | 1100℃ |
表面質 | 20/40か40/60 |
材料 | 溶かされたケイ素 |
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働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
硬度 | モールス6.5 |
密度 | 2.2g/cm3 |
製品名 | 水晶ガラス板 |
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材料 | SIO2>99.999% |
密度 | 2.2 (g/cm3) |
軽い伝送 | >92% |
硬度 | モールス6.5 |
製品名 | 水晶ガラス板 |
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材料 | SIO2 |
硬度 | モールス6.5 |
働く温度 | 1100℃ |
表面質 | 20/40か40/60 |
製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
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材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
硬度 | モールス6.5 |
タイプ | 透明なクォーツプレート |
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適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | スクエア |
処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
タイプ | 透明なクォーツプレート |
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適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | スクエア |
処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
タイプ | 透明なクォーツプレート |
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適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | スクエア |
処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
タイプ | 透明なクォーツプレート |
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適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | スクエア |
処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |