タイプ | 明確な水晶版 |
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適用 | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形 | 正方形 |
サービスの処理 | 、曲がること、磨く打つこと溶接する |
素材 | SIO2>99.99% |
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密度 | 2.2g/cm3 |
硬度 | モールス6.5 |
働くTemparature | 1150℃ |
溶解ポイント | 1750-1850℃ |
キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
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名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |