タイプ | 明確な水晶版 |
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適用 | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形 | 正方形 |
サービスの処理 | 、曲がること、磨く打つこと溶接する |
製品名 | 水晶ガラス板 |
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材料 | SIO2 |
働くTemparature | 1200℃ |
溶解ポイント | 1850℃ |
形 | 正方形/円形/形 |
名前 | 水晶ガラス管 |
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特徴 | 高く軽い伝送 |
使用法 | 光学機器 |
軽い伝送 | >92% |
働くTemparature | 1100℃ |
キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
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名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
製品名 | 水晶試験管 |
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材料 | 石英ガラス |
密度 | 2.2g/cm3 |
働く温度 | 1100℃ |
溶解ポイント | 1750℃ |
材料 | 99.99% |
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軽い伝送 | 92% |
密度 | 2.2g/cm3 |
働くTemparature | 1100℃ |
硬度 | モールス6.5 |
キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
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名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
材料 | 溶かされたケイ素 |
作業温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
製品名 | 水晶ガラスるつぼ |
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材料 | SIO2>99.99% |
密度 | 2.2g/cm3 |
硬度 | モールス6.5 |
溶解ポイント | 1750-1850℃ |
タイプ | 透明なクォーツプレート |
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適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | スクエア |
処理サービス | パンチ 切る |
キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
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名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
材料 | 溶かされたケイ素 |
作業温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |