| 製品名 | 実験用試薬のびん |
|---|---|
| 材料 | SIO2>99.9% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回、ステンレス鋼より150回 |
| 製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| タイプ | 明確な水晶版 |
|---|---|
| 適用 | 光学半導体 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形 | 正方形 |
| サービスの処理 | 、曲がること、磨く打つこと溶接する |
| 商品名 | 実験用試薬ボトル |
|---|---|
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 作業温度 | 1100℃ |
| 酸耐性 | セラミックスの30倍、ステンレスの150倍 |
| 融点 | 1750℃ |
| 商品名 | サイエンス ラボのガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶融シリコン |
| 作業温度 | 1100℃ |
| 酸耐性 | セラミックスの30倍 |
| 硬度 | モールス 6.5 |
| 製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 実験用試薬のびん |
|---|---|
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回、ステンレス鋼より150回 |
| 溶解ポイント | 1750℃ |
| 製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
