キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
---|---|
名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
材料 | 溶かされたケイ素 |
作業温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
タイプ | 透明なクォーツ管 |
---|---|
適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | 半円形 |
処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
材料 | SIO2>99.99% |
---|---|
OD | 3-300mm |
軽い伝送 | >92% |
働くTemparature | 1100℃ |
硬度 | Mose 6.5 |
材料 | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
軽い伝送 | >92% |
働くTemparature | 1100℃ |
硬度 | Mose 6.5 |
キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
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名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
材料 | 溶かされたケイ素 |
作業温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
材料 | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
軽い伝送 | >92% |
働くTemparature | 1100℃ |
硬度 | Mose 6.5 |
材料 | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
軽い伝送 | >92% |
働くTemparature | 1100℃ |
硬度 | Mose 6.5 |
材料 | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
軽い伝送 | >92% |
働くTemparature | 1100℃ |
硬度 | Mose 6.5 |
タイプ | 透明なクォーツ管 |
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適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | スクエア |
処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
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名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
材料 | 溶かされたケイ素 |
作業温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |