Name | High Temperature Quartz Glass Plate |
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Type | Clear Quartz Plate |
Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
製品名 | 精密ガラスの機械化 |
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材料 | SiO2 |
硬度 | モールス6.5 |
働く温度 | 1100℃ |
表面質 | 20/40か40/60 |
商品名 | 精密ガラスの機械化 |
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材料 | SIO2 |
硬度 | モールス6.5 |
働く温度 | 1100℃ |
表面質 | 20/40か40/60 |
製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
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材料 | 石英ガラス |
働く温度 | 1100℃ |
硬度 | モールス6.5 |
パッケージの詳細 | プラスチック泡ポリスチレン泡シートのカートンの木パレット |
製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
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材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
硬度 | モールス6.5 |
製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
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材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
硬度 | モールス6.5 |
製品名 | サイエンス ラボのガラス製品 |
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材料 | 溶融シリコン |
働く温度 | 1100℃ |
酸耐性 | セラミックスの30倍 |
硬度 | モールス 6.5 |
製品名 | サイエンス ラボのガラス製品 |
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材料 | 溶融シリコン |
作業温度 | 1100℃ |
酸耐性 | セラミックスの30倍 |
硬度 | モールス 6.5 |
製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
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材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
硬度 | モールス6.5 |
製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
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材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
硬度 | モールス6.5 |