タイプ | 明確な水晶版 |
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応用 | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形 | 四角 |
処理サービス | 、溶接し曲がること、磨く切断打つ |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
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名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
材料 | 溶かされたケイ素 |
作業温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |