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high transparency quartz plate

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価格: negotiable MOQ: 10個
材料 SIO2>99.9%
密度 2.2g/cm3
働く温度 1100℃
酸の許容 製陶術より30回、ステンレス鋼より150回
溶解ポイント 1750℃
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光学機器はケイ素化学GlasswareChemistryの実験室の科学研究所のガラス製品を溶かした

価格: negotiable MOQ: 1部分
材料 溶かされたケイ素
働く温度 1100℃
酸の許容 製陶術より30回
硬度 モールス6.5
密度 2.2g/cm3
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カスタム化のゆとりの精密CNCガラスの製粉

価格: negotiable MOQ: 10部分
製品名 精密ガラスの機械化
材料 Sio2
硬度 モールス6.5
働く温度 1100℃
表面質 20/40か40/60
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