タイプ | クリアクォーツプレート |
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応用 | 半導体、光学 |
厚さ | 0.5~100mm |
形 | 四角 |
処理サービス | 曲げ、溶接、打ち抜き、切断、研磨 |
材料 | SiO2 |
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硬度 | モールス6.5 |
働く温度 | 1100℃ |
表面質 | 20/40か40/60 |
Dieletricの強さ | 250~400Kv/cm |
キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
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名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
材料 | 溶かされたケイ素 |
作業温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |