| タイプ | クリアクォーツチューブ |
|---|---|
| アプリケーション | 半導体、光学 |
| 厚さ | 1-100mm |
| 形 | ラウンド |
| 加工サービス | パンチング、切断 |
| タイプ | クリアクォーツチューブ |
|---|---|
| アプリケーション | 半導体、光学 |
| 厚さ | 1-100mm |
| 形 | ラウンド |
| 加工サービス | パンチング、切断 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
|---|---|
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 製品名 | グラハムのコンデンサー |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
|---|---|
| 働く温度 | 1250℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 適用 | 実験室試験 |
| 素材 | 溶かされたケイ素 |
|---|---|
| 動作温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
|---|---|
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 製品名 | 実験用試薬のびん |
|---|---|
| 材料 | SIO2>99.9% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回、ステンレス鋼より150回 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
|---|---|
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
|---|---|
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
