製品名 | 石英ガラスの版 |
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材料 | SIO2>99.99% |
密度 | 2.2g/cm3 |
硬度 | モールス6.5 |
働くTemparature | 1150℃ |
キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
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材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
硬度 | モールス6.5 |
キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
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材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
硬度 | モールス6.5 |
キーワード | 最下フラスコのあたりの3つの首の水晶 |
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材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
硬度 | モールス6.5 |
キーワード | 最下フラスコのあたりの3つの首の水晶 |
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材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
硬度 | モールス6.5 |
キーワード | 三口石英丸底フラスコ |
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材料 | 溶融シリコン |
作業温度 | 1100℃ |
酸耐性 | セラミックスの30倍 |
硬度 | モールス 6.5 |
材料 | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
軽い伝送 | >92% |
働くTemparature | 1100℃ |
硬度 | Mose 6.5 |
材料 | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
軽い伝送 | >92% |
働くTemparature | 1100℃ |
硬度 | Mose 6.5 |
タイプ | 透明なクォーツプレート |
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適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | スクエア |
処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
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名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
材料 | 溶かされたケイ素 |
作業温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |