| 製品名 | 精密ガラスの機械化 |
|---|---|
| 材料 | SiO2 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1200℃ |
| 表面質 | 20/40か40/60 |
| 製品名 | 精密ガラスの機械化 |
|---|---|
| 材料 | Sio2 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 表面質 | 20/40か40/60 |
| 製品名 | 精密ガラスの機械化 |
|---|---|
| 材料 | シオ2 |
| 硬度 | モールス 6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 表面品質 | 20/40か40/60 |
| キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 作業温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 製品名 | 精密ガラスの機械化 |
|---|---|
| 材料 | SiO2 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 表面質 | 20/40か40/60 |
| 素材 | 溶かされたケイ素 |
|---|---|
| 働く温度 | 1250℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 適用 | 実験室試験 |
| 製品名 | 精密ガラスの機械化 |
|---|---|
| 材料 | SIO2 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 表面質 | 20/40か40/60 |
| タイプ | クリアクォーツプレート |
|---|---|
| 応用 | 半導体、光学 |
| 厚さ | 0.5～100mm |
| 形 | 四角 |
| 加工サービス | 曲げ、溶接、打ち抜き、切断 |
| タイプ | 透明なクォーツプレート |
|---|---|
| 適用する | 光学半導体 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形状 | スクエア |
| 処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
