タイプ | クリアクォーツプレート |
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適用 | 半導体、光学 |
厚さ | 0.5~100mm |
形 | 四角 |
サービスの処理 | 曲げ、溶接、打ち抜き、切断、研磨 |
材料 | SIO2>99.99% |
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密度 | 2.2g/cm3 |
硬度 | モールス 6.5 |
溶解ポイント | 1750~1850℃ |
作業温度 | 1110℃ |
製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
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材料 | 溶かされたケイ素 |
働く温度 | 1100℃ |
酸の許容 | 製陶術より30回 |
硬度 | モールス6.5 |
製品名 | 水晶ガラス棒 |
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材料 | SIO2>99.99% |
密度 | 2.2g/cm3 |
軽いTransimittance | 92% |
硬度 | モールス6.5 |
材料 | SIO2>99.99% |
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密度 | 2.2g/cm3 |
軽いTransimittance | 92% |
硬度 | モールス6.5 |
働くTemparature | 1100℃ |
製品名 | ホットプレス石英バー |
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材料 | SIO2>99.99% |
密度 | 2.2g/cm3 |
軽いTransimittance | 92% |
硬度 | モールス6.5 |
タイプ | 透明なクォーツプレート |
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適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | スクエア |
処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
タイプ | 透明なクォーツプレート |
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適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | スクエア |
処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
タイプ | 透明なクォーツプレート |
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適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | スクエア |
処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |
タイプ | 透明なクォーツプレート |
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適用する | 光学半導体 |
厚さ | 0.5-100mm |
形状 | スクエア |
処理サービス | 折りたたみ,溶接,パンシング,磨き |