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品質 産業用陶器切断サービス アルミナプレートレーザー切断 オーダーメイド陶器基板 Al2o3プレート 工場
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産業用陶器切断サービス アルミナプレートレーザー切断 オーダーメイド陶器基板 Al2o3プレート

ブランド名: Shengfan
モデル番号: アルミナ
原産地: 中国
認定: ROHS,CE,ISO9001
最低注文数量: 1pcs
価格: USD1-100/PCS
補給能力: 10000pcs/月

製品詳細


製品名: アルミナセラミック 種類: 陶磁器の部分
応用: 産業用セラミック Moq: 1pcs
形: デッサンとしてカスタマイズされる 処理サービス: 切断、鋳造物
密度: 密度 最大作業温度: 1600℃
ハイライト

産業用陶器の切断サービス

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セラミック・サブストレームのレーザーカット

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工業用陶器材の切断 Al2o3プレート

製品説明

盛凡アルミナセラミック:

 

当社は透明石英管炉のメーカーです。
サイズと設計:異なる直径、厚さ、長さに合わせてカスタマイズを受け入れます。または、図面をお送りください。

 

 

製品の説明:

 

アルミナセラミック部品 は、 およびフォトリソグラフィーマシンの回転部品に真空状態で使用されます。これには非常に高い機械加工精度が必要であり、内側の円の振れは2ミクロン以内に収める必要があります。

ファインセラミックスは、半導体装置の主要部品となっています。特にハイエンドのリソグラフィーマシンでは、高いプロセス精度を達成するために、優れた機能複合性、構造安定性、熱安定性、および高い寸法精度を備えたセラミック部品を幅広く使用する必要があります。例えば、Eチャック、真空チャック、ブロック、マグネットスチールスケルトン水冷プレート、リフレクター、ガイドレールなどです。

産業用陶器切断サービス アルミナプレートレーザー切断 オーダーメイド陶器基板 Al2o3プレート 0産業用陶器切断サービス アルミナプレートレーザー切断 オーダーメイド陶器基板 Al2o3プレート 1

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半導体業界で使用されるもう一つの高精度セラミック部品 精密セラミックスは、単結晶炉、イオン注入装置、フォトリソグラフィーマシン、CVD/PVD装置、パッケージングおよびテスト装置など、半導体装置の主要部品となっています。

Innovaceraは、アルミナセラミックス、窒化アルミニウムセラミックス、窒化ケイ素セラミックス、窒化ホウ素//熱分解窒化ホウ素セラミックス、炭化ケイ素、および微孔性セラミックスを含む必要な材料を提供できます。
 
生産設備:
産業用陶器切断サービス アルミナプレートレーザー切断 オーダーメイド陶器基板 Al2o3プレート 4
会社概要:
産業用陶器切断サービス アルミナプレートレーザー切断 オーダーメイド陶器基板 Al2o3プレート 5
連雲港盛凡石英セラミック製品工場は、石英板、石英管、石英フランジ、石英リング、キュベット、石英器具の研究開発を専門とする専門メーカーです。
当社は、中国水晶の首都である江蘇省東海市に位置しています。連雲港港から70km、交通の便が良いです。1000平方メートルの面積をカバーし、現在30人以上の従業員を抱え、年間売上高は520万米ドルを超えています。技術志向、品質第一、誠実さと責任、持続可能な運営という理念のもと、当社は標準的で持続可能な運営能力を備えた国際的な企業を確立することに専念しています。
梱包:
産業用陶器切断サービス アルミナプレートレーザー切断 オーダーメイド陶器基板 Al2o3プレート 6産業用陶器切断サービス アルミナプレートレーザー切断 オーダーメイド陶器基板 Al2o3プレート 7

よくある質問:

Q1. サンプル注文はできますか? A: はい、品質をテストおよび確認するためのサンプル注文を歓迎します。

Q2. 納期はどうですか? A: デポジットを受け取ってから15日以内。

Q3. MOQの制限はありますか? A: 低MOQ、サンプルチェック用の1個が利用可能です
Q4. あなたの工場で注文を進めるにはどうすればよいですか?A: まず、お客様の要件またはアプリケーションをお知らせください。次に、お客様の要件または当社の提案に従って見積もりを行います。第三に、お客様はサンプルを確認し、正式な注文のためにデポジットを置きます。第四に、生産を手配します。
 

製品のハイライト

盛凡アルミナセラミック: 当社は透明石英管炉のメーカーです。サイズと設計:異なる直径、厚さ、長さに合わせてカスタマイズを受け入れます。または、図面をお送りください。 製品の説明: アルミナセラミック部品 は、 およびフォトリソグラフィーマシンの回転部品に真空状態で使用されます。これには非常に高い機械加工精度が必要であり、内側の円の振れは2ミクロン以内に収める必要があります。 ファインセラミックスは、半導体装置の主要部品となっています。特にハイエンドのリソグラフィーマシンでは、高いプロセス精度を達成するために、優れた機能複合性、構造安定性、熱安定性、および高い寸法精度を備えたセラミック部品を幅広...

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