High Purity Optical Quartz Window for Semiconductor Equipment
製品詳細
| SIO2コンテンツ: | >99.99% | 密度: | 2.2g/cm3 |
|---|---|---|---|
| 硬度: | モース硬度 6.5-6.6 | 使用温度: | 1100℃～1200℃ |
| 厚さ: | 0.3-100mm | 可視透過率: | > 93％ |
| ハイライト |
optical quartz window semiconductor,high purity fused quartz plate,quartz window semiconductor equipment |
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製品説明
製品のハイライト
モールス硬度 6.5、動作温度 1200°C の高純度石英ウィンドウ (SiO2>99.99%)。カスタム サイズ 0.3 ～ 100 mm、研磨された 40/20 表面品質。半導体装置、光学機器、高温用サイトグラスに最適です。サンプルが利用可能、低MOQ、15日間の配達。
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