| タイプ | 透明なクォーツプレート |
|---|---|
| 適用する | 光学半導体 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形状 | スクエア |
| 処理サービス | パンチ 切る |
| 製品名 | 水晶ガラス板 |
|---|---|
| 材料 | SIO2> 99.99％ |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 軽いTransimittance | 92％ |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 水晶ガラス板 |
|---|---|
| 材料 | SIO2> 99.99％ |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 軽いTransimittance | 92％ |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 水晶ガラス板 |
|---|---|
| 材料 | SIO2> 99.99％ |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 軽いTransimittance | 92％ |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 製品名 | 実験用試薬のびん |
|---|---|
| 材料 | SIO2>99.9% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回、ステンレス鋼より150回 |
| 材料 | SiO2 |
|---|---|
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 表面質 | 20/40か40/60 |
| Dieletricの強さ | 250~400Kv/cm |
