| 材料 | SiO2 |
|---|---|
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 紫外線伝送 | 80% |
| 材料 | SiO2 |
|---|---|
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 表面質 | 20/40か40/60 |
| Dieletricの強さ | 250~400Kv/cm |
| 材料 | 99.99% |
|---|---|
| 軽い伝送 | 92% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 働くTemparature | 1100℃ |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 材料 | SiO2 |
|---|---|
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 紫外線伝送 | 80% |
| 素材 | SiO2 |
|---|---|
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 紫外線伝送 | 80% |
| 製品名 | 実験用試薬のびん |
|---|---|
| 材料 | SIO2>99.9% |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回、ステンレス鋼より150回 |
| タイプ | 明確な水晶版 |
|---|---|
| 応用 | 光学半導体 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形 | 正方形 |
| サービスの処理 | の磨く切断打つこと |
| 材料 | SIO2>99.9% |
|---|---|
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 作業温度 | 1100℃ |
| 使用法 | 実験室、生物学、医学、化学 |
| 融点 | 1750℃ |
| タイプ | クリアクォーツプレート |
|---|---|
| 適用 | 半導体、光学 |
| 厚さ | 0.5～100mm |
| 形 | 四角 |
| サービスの処理 | 曲げ、溶接、打ち抜き、切断、研磨 |
| 材料 | SiO2 |
|---|---|
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 紫外線伝送 | 80% |
