| 製品名 | 精密ガラスの機械化 |
|---|---|
| 材料 | SiO2 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働く温度 | 1200℃ |
| 表面質 | 20/40か40/60 |
| タイプ | 透明なクォーツプレート |
|---|---|
| 適用する | 光学半導体 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形状 | スクエア |
| 処理サービス | パンチ 切る |
| 素材 | SIO2>99.99% |
|---|---|
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 硬度 | モールス6.5 |
| 働くTemparature | 1150℃ |
| 溶解ポイント | 1750-1850℃ |
| タイプ | 明確な水晶版 |
|---|---|
| 適用 | 光学半導体 |
| 厚さ | 0.5-100mm |
| 形 | 正方形 |
| サービスの処理 | 、曲がること、磨く打つこと溶接する |
| 製品名 | 水晶ガラス板 |
|---|---|
| 材料 | SIO2 |
| 働くTemparature | 1200℃ |
| 溶解ポイント | 1850℃ |
| 形 | 正方形/円形/形 |
| 名前 | 水晶ガラス管 |
|---|---|
| 特徴 | 高く軽い伝送 |
| 使用法 | 光学機器 |
| 軽い伝送 | >92% |
| 働くTemparature | 1100℃ |
| キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 作業温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| キーワード | 科学研究所のガラス製品 |
|---|---|
| 名前 | プロセス ガラス実験室によってカスタマイズされる水晶器械 |
| 材料 | 溶かされたケイ素 |
| 働く温度 | 1100℃ |
| 酸の許容 | 製陶術より30回 |
| 材料 | 99.99% |
|---|---|
| 軽い伝送 | 92％ |
| 密度 | 2.2g/cm3 |
| 働くTemparature | 1100℃ |
| 硬度 | モールス6.5 |
